职位描述:
FMM设计工程师,主要负责设计、开发和优化Photo mask的布局和结构,以确保其在制造过程中的精确性和效率。与工艺团队紧密合作,根据项目需求设计Photo mask,并参与相关的技术讨论和决策过程。
主要职责:
1.负责图纸研究及设计。
2.与工艺团队合作,根据项目需求设计Photo mask(光掩膜),并参与相关的技术讨论和决策过程
3.负责分析实验开发过程监控数据与Photo mask(光掩膜)的相关性,优化设计补偿。
4.各类设计图案在曝光蚀刻工艺作用下的原理和行为分析,进行design rule制定。
5.负责Photo mask(光掩膜)供应商开发。
职位要求:
学历要求:本科及以上材料科学、光学或相关领域的专业背景。
经验要求:在OLED显示面板或其他半导体相关领域有丰富的Photo mask(光掩膜)设计经验,具有光掩膜制造商设计经验佳。
技能要求:
1.熟练使用Auto CAD绘制二维图纸
2.熟练使用Excel、PPT等基本工作软件,具有良好的数据处理和分析能力
3.具备FMM设计仿真能力优先
4.具有良好的沟通表达能力
其他要求:身体健康