岗位职责：
1、负责体声波滤波器光刻工艺研发。
2、负责TSV光刻工艺研发。
3、负责设备单项工艺调试，根据产品研发需要订制化工艺研究，DOE方案设计，实验结果分析对应。
4、对应不同的研发项目，负责制定项目对应的工艺研发计划，和长期的研发规划，及时与项目组对齐，保证项目研发进度。
5、配合设备工程师，完成设备PM和维修后的设备恢复工作，协助设备工程师完成相关设备故障查找。
6、负责撰写的相关sop文件，质量体系建设，人员培训。
7、负责产线异常立项追踪查找，并提出解决方案。
8、评估新机台，工艺及材料, 降本增效。
9、定量产机台的工艺需求，解决量产机台的工艺之问题。
10、执行光刻工序的各项工艺条件管理，确保生产符合工艺要求。
11、持续改善统计工艺管制之指标。
12、及时完成上级领导领导交代的其他工作任务。
任职资格：
1、大专及以上学历，电子、机械等相关专业毕业。
2、4年以上光刻工艺研发工作经验，有半导体前段FAB或体声波滤波器行业工作经验优先考虑。
3、熟悉半导体前段光刻工艺研发工作，对TEL,DNS,SUSS，芯源等供应商的涂胶显影设备结构&操作都非常熟悉，常见正负胶，不同粘度光刻胶的涂胶显影工艺程序有非常丰富的处理经验；对SUSS,NIKON,CANON,ASML的光刻机设备结构&操作都非常熟悉，常见正负胶，不同粘度光刻胶的曝光工艺程序有非常丰富的处理经验。
4、熟悉TSV工艺流程，对体声波滤波器有丰富的在线工艺研发经验，工艺异常处理经验。
5、具备良好的沟通协调能力和团队合作精神。
6、熟练应用Word、Excel、PPT等办公软件。具有一定的写作能力，能熟练输出工作总结、汇报、案例等文档。